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【商品簡介】：

產品特點：
TG2U型光刻機是制造中，大規模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設備。
歡迎您聯系我們獲得光刻機(TG2U型)的更多信息。

參數

適用的掩模尺寸

a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(選購)；

適用的硅片尺寸

φ35—75mm

光刻圖形線條

3-4μm, 最細可達2μm

掩模與硅片之間的相對位移范圍

X/Y±2.5mm,(族轉) ±6°

承片臺(硅片)繞主軸旋轉

粗調360度,可微調

承片工作臺綜合移動范圍

X,Y合成φ75mm

承片臺的球座平面至掩模板面升降

0—7.5mm

曝光燈源

GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長，300―436nm

曝光系統能量不低于

7mw

曝光系統的照度均勻度在φ75mm范圍內

±5％

顯微鏡的照明波長

≈545nm

曝光時間控制范圍

0.1秒—99分

雙目顯微鏡的放大倍數

a.目鏡共二種:10X,16X；b.平視場物鏡共三種:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；

真空接觸壓力

≥0.7kgf

裝箱尺寸

1000X850X980mm(2只)

裝箱重量

200kg